Kemisk peeling til ar

ardannelse kan udvikle sig af en række årsager, herunder skade og acne. Mange betragter ardannelse, især i ansigtet, larmende og søge måder at fjerne det på. Afhængig af dybden af ar, varierer behandlingsmulighederne. Dermatologer tilbyder kemiske peeling som en mulighed, især for ar tæt på hudens overflade.

Hvordan kemiske peeling arbejder

En kemisk peeling er en forholdsvis sikker procedure, hvorved der påføres et kemikalie på huden. Når kemikaliet skrælles væk, fjernes det øverste lag af huden, hvilket afslører hud, der er sundere, mere levende og glattere. Denne fremgangsmåde bruges til at behandle en række hudforhold, herunder acne, rynker, mørke pletter, sagging og ardannelse.

Typer af peeling

Der er fire hovedtyper af kemiske peeling, og forskellen er den slags anvendt kemikalie. Alpha hydroxy acid er den mildeste af behandlingerne. Glycolsyre anvendes primært på huden med solskader. Trichloreddikesyre anbefales normalt til dem med mørkere hud. Phenol er den stærkeste løsning, der anvendes i kemiske peeling.

Skalens effektivitet

En kemisk skræl fjerner det øverste lag af huden og udsætter laget nedenfor. Hvis et ar er tæt på overfladen af huden, vil skrællen fjerne laget, der har arret. De fleste ar er dog dybere. For de ar, kan kemiske peeling ske i faser, med så mange som seks i en bestemt periode. Mange mennesker rapporterer en betydelig forbedring i deres udseende.

Bivirkninger

De fleste anser en kemisk peeling en forholdsvis sikker procedure. Men en skræl kan have bivirkninger, ifølge University of Maryland Medical Center. Visse hudtyper kan opleve en lille ændring i tone, og dette kan være midlertidigt eller permanent. Lejlighedsvis kan ardannelse opstå, hvilket normalt kan behandles. Gendannelsestid for kemisk skrælbehandling tager overalt fra fire til ti dage afhængigt af hvilken type skræl der anvendes og dybden af skræl.

Hudpleje efter kemisk skræl

En hudlæge vil give specifikke plejeinstruktioner efter en kemisk skræl. Generelt bør du undgå at udsætte solen for en tid.

, , ] ]